中化新網(wǎng)訊 7月3日，從中國(guó)平煤神馬集團(tuán)傳來消息，該集團(tuán)旗下中宜創(chuàng)芯公司于近日成功將碳化硅半導(dǎo)體粉體純度突破8N，最高達(dá)到8N8（99.9999998%）?！疤蓟璋雽?dǎo)體粉體純度的提高，標(biāo)志著我國(guó)在高端半導(dǎo)體材料領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破，為芯片產(chǎn)業(yè)自主化注入強(qiáng)勁動(dòng)力?！敝袊?guó)平煤神馬集團(tuán)中宜創(chuàng)芯公司董事長(zhǎng)孫毅表示。

據(jù)介紹，碳化硅作為第三代半導(dǎo)體核心材料，其粉體純度直接影響單晶生長(zhǎng)質(zhì)量和電學(xué)性能。此前，全球碳化硅粉體純度的最高紀(jì)錄8N（99.999999%），由一家國(guó)際行業(yè)巨頭保持。

中宜創(chuàng)芯公司自2023年5月成立以來，便致力于碳化硅半導(dǎo)體材料的研發(fā)與生產(chǎn)。在此次純度提升之前，中宜創(chuàng)芯的碳化硅粉體純度已達(dá)到7N8（99.999998%）水平，吸引了30多家企業(yè)和研究機(jī)構(gòu)試用和驗(yàn)證。

為實(shí)現(xiàn)純度的再次突破，2024年12月以來，中宜創(chuàng)芯的技術(shù)團(tuán)隊(duì)引進(jìn)國(guó)內(nèi)行業(yè)首臺(tái)新型無污染碎料裝置，并采用先進(jìn)的粉體合成爐和自動(dòng)化無污染破碎技術(shù)，不斷優(yōu)化研發(fā)流程，不僅將碳化硅粉體純度提升至8N8，還將正品率由55%增至85%，徹底攻破“卡脖子”難題。

“隨著碳化硅粉體純度成功提升，集團(tuán)公司正加速推進(jìn)其產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。”中宜創(chuàng)芯技術(shù)總監(jiān)楊正宏說，該公司的碳化硅半導(dǎo)體粉體產(chǎn)品具有顆粒度大、純度高、阿爾法含量高和游離碳低等優(yōu)點(diǎn)，特別適合8英寸碳化硅厚單晶晶錠的生長(zhǎng)。目前，產(chǎn)品已得到浙江材孜、江蘇超芯星、山東粵海金等國(guó)內(nèi)知名企業(yè)驗(yàn)證使用。